Публикации:
Свойства аморфных сплавов и нанокомпозитов на основе кремния. Физические принципы технологии изготовления полупроводниковых материалов с управляемой шириной запрещенной зоны для фотоэлектрического преобразования энергии солнечной радиации.

    1. И.П. Лисовский, И.З. Индутный, М.В. Муравская, В.В. Войтович, Е.Г. Гуле, П.Е. Шепелявый. Усиление фотолюминесценции структур с нанокристаллическим кремнием, стимулированное низко-дозовым γ-облучением // ФТП.–2008.–Т.42, вып.5.–С.591–594.
    2. І.П. Лісовський, В.Г. Литовченко, М.В. Войтович, , В.П. Мельник, І. M. Хацевич, В.В. Войтович, В.Ю. Поварчук. Вплив γ-опромінання на оптичні властивості структур nc-Si/SiO2, легованих азотом //УФЖ.–2008.–Т.53, №10.–С.1001–1005.
    3. І.П. Лісовський, М.В. Войтович, В.Г. Литовченко, І.М. Хацевич, В.В. Войтович, Б.О. Данильченко. Дослідження процесу відпалу радіаційних дефектів в плівкових структурах nc-Si/SiO2. // УФЖ.- 2009. – Т.54, №10. – С.1038-1043.
    4. І.П. Лісовський, В.Г. Литовченко, М.В. Войтович, Б.О. Данильченко, В.В. Войтович, В.Ю. Поварчук, І.М. Хацевич, П.Є. Шепелявий. Радіаційно-термічне підсилення люмінесценції плівкових структур nc-Si/SiO2 // Матеріали ХІ Міжнародної конференції "Фізика і Технологія Тонких Плівок та Наносистем" (МКФТТПН-ХІІ).– Івано-Франківськ, 2009.–Т.1.–С.255–256.
    5. Войтович В.В., Неймаш В.Б., Красько Н.Н., Колосюк А.Г., Поварчук В.Ю., Руденко Р.М., Макара В.А., Петруня Р.В., Юхимчук В.О., Стрельчук В.В. Влияние примеси Sn на оптические и структурные свойства тонких кремниевых пленок // ФТП.- 2011.-Т. 45, В. 10.- С. 1331-1335.
    6. V.B. Neimash, V.M. Poroshin, P.E. Shepelyaviy, V.O. Yukhymchuk, V.V. Melnyk, V.A. Makara, A.G. Kuzmich Tin doping effect on Crystallization of Amorphous Silicon, obtained by vapor deposition in vacuum. // Semiconductor Physics, Quantum Electronics and Optoelectronics. 2013, 16, N4 Р.331-335.
    7. В.Б.Неймаш, В.М.Порошин, В.О.Юхимчук, П.Є.Шепелявий, В.А.Макара, С.Ю.Ларкін. Мікроструктура тонких композитних плівок Si-Sn.// УФЖ, -2013.-Т.58, №9, -С.867-873.
    8. Neimash, V. Poroshin, P. Shepeliavyi, V. Yukhymchuk, V. Melnyk, A. Kuzmich, V. Makara, A. Goushcha . Tin Induced a-Si Crystallization in Thin Films of Si-Sn Alloys.//.Appl.Phys. -2013.-V.114.no12. P.213104-1 – 213104-6.
    9. Кристалізація тонких плівок кремнію, легованих оловом: поведінка та роль водню / Р.М. Руденко, М.М. Красько, В.В. Войтович [та ін.] // Укр. фіз. журн. – 2013. – Т. 58, №12. – С. 1166 – 1171.
    10. P.E. Shepeliavyi, I.Z. Indutnyi, V.A. Dan’ko, V.B. Neimash, V.Yu. Povarchuk. Investigation of thermal sensitivity and radiation resistance of SiOx〈Ti〉 metal-dielectric films. Original Research Article Infrared Physics & Technology, Volume 63, March 2014, Pages 189-192.
    11. В.Б.Неймаш, О.O. Гуща, П.Є.Шепелявий, В.О.Юхимчук, М.А.Данько, В.В.Мельник, A.Г.Кузьмич. Механізм індукованої оловом кристалізації аморфного кремнію.// УФЖ 2014 №12 с.1168-1176.
    12. Volodymyr B. Neimash, Alexander O. Goushcha, Petro Y. Shepeliavyi, Volodymyr O. Yukhymchuk, Viktor A. Danko, Viktor V. Melnyk and Andrey G. Kuzmich Self-sustained cyclic tin induced crystallization of amorphous silicon. Journal of Materials Research, volume 30, issue 20, pp. 3116-3124. (2015)
    13. В.Б.Неймаш, Г.І.Довбешко, П.Є.Шепелявий, М.А.Данько, В.В.Мельник, М.Ісаєв, A.Г.Кузьмич. Комбінаційне розсіювання світла в процесі індукованої оловом кристалізації аморфного кремнію. // УФЖ, -2016, Т.61, №2, с.149-155.
    14. V. Neimash, P. Shepeliavyi, G.Dovbeshko, A. Goushcha, V. Melnyk, M.Isaev and A. Kuzmich. Nanocrystalls growth control during laser anneal of Sn:(α-Si) composites. Jornal of Nanomaterials, -V 2016 (2016) Article ID 7920238, 13 pages.
    15. В.В. Войтович, Р.М. Руденко, В.О. Юхимчук, М.В. Войтович, М.М. Красько, А.Г. Колосюк, В.Ю. Поварчук, I.М. Хацевич, М.П. Руденко. Вплив олова на структурнi перетворення тонкоплiвкової субоксидної матрицi кремнiю / // УФЖ. - 2016. - Т. 61, No 11 - C. 986-991.